fpd顯示器用靶材的市場調查

⑴ 靶材的應用領域

眾所周知，靶材材料的技術發展趨勢與下游應用 產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。如Ic製造商．近段時間致力於低電阻率銅布線的開發， 預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。另外，近 年來平面顯示器（F P D）大幅度取代原 以陰極射線管（CRT）為主的電腦顯示器及電視機市場．亦將大幅增 加ITO靶材的技術與市場需求。此外在存儲技術方面。高密度、大容量硬碟，高密度的可擦寫光碟的需求持 續增加． 這些均導致應用產業對靶材的需求發生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應用領域，以及這些領域靶材發展的趨勢。 在儲存技術方面，高密度、大容量硬碟的發展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF ~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光碟需要的 T b F e C o合金靶材還在進一步發展，用它製造的磁光 盤具有存儲容量大，壽命長，可反復無接觸擦寫的特 點。如今開發出來的磁光碟，具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 層復合膜結構， T bF eCo/AI結構的Kerr 旋轉角達到5 8，而T b F e Co f F a 則可以接近0.8。經過研究發現， 低磁導率的靶材高交流局部放電電壓 l 抗電強度。
基於鍺銻碲化物的相變存儲器(PCM)顯示出顯著的商業化潛力,是NOR型快閃記憶體和部分DRAM市場的一項替代性存儲器技術，不過,在實現更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰之一,便是缺乏能夠生產可進一步調低復位電流的完全密閉單元。降低復位電流可降低存儲器的耗電量,延長電池壽命和提高數據帶寬,這對於當前以數據為中心的、高度攜帶型的消費設備來說都是很重要的特徵。

⑵ 電腦顯示器怎麼恢復出廠設置型號 FPD1975W-CN 急急急！！！有用秒采

你只給出了液晶顯示器的電源板型號，根本不是液顯的型號！根據這個電源板推測你的應該是
品牌 捷威 Gateway （宏基品牌系列）

宏基：在關機的狀態下，先同時按住「AUTO」和」MENU」鍵，再按下「POWER」鍵打開顯示器。此時，按「MENU」鍵打開OSD菜單，將發現OSD菜單並不是向平時一樣出現在屏幕中央，而是在屏幕左側。其左上角出現紅色「F」符號，用左右鍵調節游標至「F」符號上，按「MENU」鍵即可進入工程模式。在該工廠模式下，我們可以看到不少對我們很有用的信息：如液晶使用時間，面板版本信息等

另外，因為每個品牌機器型號不同，你可以試一下以上操作，如果不行，請參考說明書或先搞清楚品牌型號後，咨詢廠家400電話直接指導。

⑶ 靶材的作用和用途

1、微電子領域

在所有應用產業中，半導體產業對靶材濺射薄膜的品質要求是最苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已製造出來．而互連線的寬度卻在減小。矽片製造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所製造的靶材具有更好的微觀結構。

2、顯示器用

平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術與市場需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是採用納米狀態的氧化銦和氧化錫粉混合後燒結，一種是採用銦錫合金靶材。

3、存儲用

在儲存技術方面，高密度、大容量硬碟的發展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光碟需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發展，用它製造的磁光碟具有存儲容量大，壽命長，可反復無接觸擦寫的特點。

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靶材的發展：

各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面塗層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新型電子元器件發展的需求。

例如，在半導體集成電路製造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產業中，各種顯示技術(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發展，有的已經用於電腦及計算機的顯示器製造。

在信息存儲產業中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質量提出了越來越高的要求，需求數量也逐年增加。

參考資料來源：網路—靶材

⑷ ito靶材是什麼

ito靶材屬於陶瓷靶材的一種，近些年來人們對於電腦、電視、手機顯示屏的追求越發明顯，由此也帶動了ito靶材的市場需求。但目前ito技術發展還不夠先進，發展空間巨大。

ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為平板顯示器(FPD)產業，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL)、場發射顯示器(FED)、電致有機發光平面顯示器(OELD)等離子顯示器(PDP)等。

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國內對ITO靶材的需求量大幅增長，國內生產的ITO靶材密度低，無法滿足高端平板顯示器行業對於靶材質量的要求．僅僅部分用於低端液晶產品中。目前世界上只有日本、美國、德國等少數發達國家和地區能生產ITO靶材，而我國平板顯示器產業所需求的ITO靶材的98％依賴於進口，因此，研製開發ITO靶材生產技術是現有In生產企業開發In深加工技術的首選目標。

國外ITO靶材的生產工藝和技術設備已較為成熟和穩定。其主要制備方法有熱等靜壓法、熱壓法和燒結法。

⑸ LCD工廠的製程，以及使用的各種消耗性材料，如化學葯液，各種膜、膠、靶材、過濾器等等，主要國際進口的

金海昆，雖然分很高但是要的東西太多 太復雜了